Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев кремния из газовой фазы / М. А. Барил, Ю. П. Ирошников, М. Ф. Егорова
Сохранено в:
Вид документа: | |
---|---|
Автор: | Барил, М. А. |
Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1971 |
Физические характеристики: |
26, [1] с. : ил. ; 21 см
|
Язык: | Русский |
Серия: |
Обзоры по электронной технике
1971, вып. 8 |
Загрузка