Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев кремния из газовой фазы / М. А. Барил, Ю. П. Ирошников, М. Ф. Егорова

Сохранено в:
Шифр документа: 111683-29,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Барил, М. А.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1971
Физические характеристики: 26, [1] с. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1971, вып. 8
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001444134
005 20180126101449.0
100 # # $a 20180126d1971 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев кремния из газовой фазы  $f М. А. Барил, Ю. П. Ирошников, М. Ф. Егорова 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1971 
215 # # $a 26, [1] с.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $i Серия: Микроэлектроника  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1971, вып. 8 
320 # # $a Библиография: с. 25―26 (77 назв.) 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br78454  $1 2001   $v 1971, вып. 8 
700 # 1 $a Барил  $b М. А.  $g Михаил Абрамович 
701 # 1 $a Ирошников  $b Ю. П.  $g Юрий Павлович 
701 # 1 $a Егорова  $b М. Ф.  $g Майя Филипповна 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20180125  $g psbo