Гетерогенные реакции в процессах травления материалов микроэлектроники Si, Ge и SiO₂: (02.00.04): Дис. на соиск. учен. степ. д-ра хим. наук в форме науч. докл. / АН СССР, Сиб. отд-ние, Ин-т неорган. химии
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Бакланов, М. Р. |
| Опубликовано: | Новосибирск , 1991 |
| Физические характеристики: |
47 с. : ил.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||