Модель газофазных процессов в СВЧ-разряде пониженного давления O2/SiCl4/SF6 при осаждении слоев SiO2: (01.04.04): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / АН СССР, Ин-т общ. физики
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Александров, Д. И. |
| Опубликовано: | М. , 1987 |
| Физические характеристики: |
16 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||