|
|
|
|
|
00000cam0a22000001ib4500 |
| 001 |
BY-NLB-rr35850180000 |
| 005 |
20190121110133.7 |
| 010 |
# |
# |
$d Б. ц.
|
| 021 |
# |
# |
$a RU
$b [86-34583]
|
| 100 |
# |
# |
$a 20070808d1986 y0rusy50 ||||ca
|
| 101 |
0 |
# |
$a rus
|
| 102 |
# |
# |
$a RU
|
| 200 |
1 |
# |
$a Численное моделирование газофазных реакций в СВЧ-плазме пониженного давления O₂+ SiCl₄ при осаждении SiO₂
|
| 210 |
# |
# |
$a М.
$d 1986
|
| 215 |
# |
# |
$a 36 с.
$c рис.
|
| 225 |
2 |
# |
$a Препр.
$f АН СССР. Ин-т общ. химии
$v № 66
|
| 300 |
# |
# |
$a Библиогр.: с. 29-32 (58 назв.)
|
| 345 |
# |
# |
$9 100 экз.
|
| 606 |
0 |
# |
$3 BY-NLB-ar36799
$a ХИМИЧЕСКАЯ КИНЕТИКА
$2 DVNLB
|
| 610 |
0 |
# |
$a Плазма (физ.) низкотемпературная
|
| 675 |
# |
# |
$a 533.915
|
| 700 |
# |
1 |
$a Александров
$b Д. И.
|
| 801 |
# |
1 |
$a BY
$b BY-HM0000
$c 20070808
$g psbo
|
