Численное моделирование газофазных реакций в СВЧ-плазме пониженного давления O₂+ SiCl₄ при осаждении SiO₂
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Александров, Д. И. |
| Опубликовано: | М. , 1986 |
| Физические характеристики: |
36 с. : рис.
|
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Препр.
№ 66 |
| Предмет: |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||