Исследование условий роста и свойств эпитаксиальных слоев Si, Si{н.инд.}(1-x)Ge{н.инд.}(x), GaP и GaAs, выращенных на Si из жидкой фазы: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.10) / АН УзССР, Физ.-техн. ин-т им. С. В. Стародубцева

Сохранено в:
Шифр документа: 2135/86СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Дадамухамедов, С.
Опубликовано: Ташкент , 1984
Физические характеристики: 21 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr34359510000
005 20070727173853.0
100 # # $a 20070727d1984 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UZ 
200 1 # $a Исследование условий роста и свойств эпитаксиальных слоев Si, Si{н.инд.}(1-x)Ge{н.инд.}(x), GaP и GaAs, выращенных на Si из жидкой фазы  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.10)  $f АН УзССР, Физ.-техн. ин-т им. С. В. Стародубцева 
210 # # $a Ташкент  $d 1984 
215 # # $a 21 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 19-21 (18 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 01.04.10  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Дадамухамедов  $b С.  $g Суннатулла 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070727  $g psbo