Вторичные процессы при ионной имплантации полупроводников: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. д-ра фаз.-мат. наук: (01.04.10) / Ленингр. политехн. ин-т им. М. И. Калинина
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Тетельбаум, Д. И. |
| Опубликовано: | Л. , 1987 |
| Физические характеристики: |
34 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||