Состояние разработок и перспективы использования ЭЦР источников плазмы для технологических процессов формирования пленочных структур в микроэлектронике и оптике / А. С. Вус, А. М. Дудкина, В. А. Дудкин и др.

Сохранено в:
Шифр документа: 452212,
Вид документа: Книги
Опубликовано: Харьков : ИРЭ , 1990
Физические характеристики: 55 с. : ил. ; 20 см
Язык: Русский
Серия: Препр. № 90-22
Предмет:
00000cam0a22000001ib4500
001 BY-NLB-rr26769760000
005 20161201121436.0
010 # # $d 45 к. 
021 # # $a RU  $b [91-24223] 
100 # # $a 20071220d1990 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UA 
200 1 # $a Состояние разработок и перспективы использования ЭЦР источников плазмы для технологических процессов формирования пленочных структур в микроэлектронике и оптике  $f А. С. Вус, А. М. Дудкина, В. А. Дудкин и др. 
210 # # $a Харьков  $c ИРЭ  $d 1990 
215 # # $a 55 с.  $c ил.  $d 20 см 
225 2 # $a Препр.  $f АН УССР, Ин-т радиофизики и электрон.  $v № 90-22 
300 # # $a Библиогр.: с. 50-55 (86 назв.) 
345 # # $9 200 экз. 
610 0 # $a Пленки тонкие - Осаждение из газовой фазы 
610 0 # $a Плазма (физ.) - Нагрев электронно-циклотронный 
675 # # $a 621.382.049.77.002:533.9 
701 # 1 $a Вус  $b А. С.  $g Александр Степанович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20071220  $g psbo