|
|
|
|
|
00000cam0a22000001ib4500 |
001 |
BY-NLB-rr26769760000 |
005 |
20161201121436.0 |
010 |
# |
# |
$d 45 к.
|
021 |
# |
# |
$a RU
$b [91-24223]
|
100 |
# |
# |
$a 20071220d1990 y0rusy50 ||||ca
|
101 |
0 |
# |
$a rus
|
102 |
# |
# |
$a UA
|
200 |
1 |
# |
$a Состояние разработок и перспективы использования ЭЦР источников плазмы для технологических процессов формирования пленочных структур в микроэлектронике и оптике
$f А. С. Вус, А. М. Дудкина, В. А. Дудкин и др.
|
210 |
# |
# |
$a Харьков
$c ИРЭ
$d 1990
|
215 |
# |
# |
$a 55 с.
$c ил.
$d 20 см
|
225 |
2 |
# |
$a Препр.
$f АН УССР, Ин-т радиофизики и электрон.
$v № 90-22
|
300 |
# |
# |
$a Библиогр.: с. 50-55 (86 назв.)
|
345 |
# |
# |
$9 200 экз.
|
610 |
0 |
# |
$a Пленки тонкие - Осаждение из газовой фазы
|
610 |
0 |
# |
$a Плазма (физ.) - Нагрев электронно-циклотронный
|
675 |
# |
# |
$a 621.382.049.77.002:533.9
|
701 |
# |
1 |
$a Вус
$b А. С.
$g Александр Степанович
|
801 |
# |
1 |
$a BY
$b BY-HM0000
$c 20071220
$g psbo
|