Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резистивных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.13) / Моск. авиац. технол. ин-т им. К. Э. Циолковского

Сохранено в:
Шифр документа: 134622/91СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Шапиро, А. Г.
Опубликовано: М. , 1991
Физические характеристики: 23 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr18750380000
005 20070511145747.0
100 # # $a 20070511d1991 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резистивных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (05.12.13)  $f Моск. авиац. технол. ин-т им. К. Э. Циолковского 
210 # # $a М.  $d 1991 
215 # # $a 23 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 121-23 (24 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.12.13  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Шапиро  $b А. Г.  $g Александр Гиршевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070511  $g psbo