Исследование и разработка технологического процесса неразрушающего контроля резистивных слоев с целью анализа интегральных параметров их состояния, необходимых для автоматизации и моделирования этапов фотолитографического процесса: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.13) / Моск. авиац. технол. ин-т им. К. Э. Циолковского
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Шапиро, А. Г. |
| Опубликовано: | М. , 1991 |
| Физические характеристики: |
23 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||