Исследование влияния электрического поля и когерентного ик-излучения на рост эпитаксиальных и пленочных структур: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.18)

Сохранено в:
Шифр документа: АЯ383618СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Замков, Е. Т.
Опубликовано: Таганрог , 1980
Физические характеристики: 25 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr10435630000
005 20061206174507.0
100 # # $a 20061206d1980 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Исследование влияния электрического поля и когерентного ик-излучения на рост эпитаксиальных и пленочных структур  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (05.12.18) 
210 # # $a Таганрог  $d 1980 
215 # # $a 25 с. 
300 # # $a В надзаг.: Таганрог. радиотехн. ин-т им. В. Д. Калмыкова. Библиогр.: с. 24-25 (9 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.12.18  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Замков  $b Е. Т.  $g Евгений Терентьевич 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20061206  $g psbo