Исследование влияния электрического поля и когерентного ик-излучения на рост эпитаксиальных и пленочных структур: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.12.18)
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Замков, Е. Т. |
| Опубликовано: | Таганрог , 1980 |
| Физические характеристики: |
25 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||