Исследование влияния параметров реактивного магнетронного распыления на электронные свойства аморфного гидрированного Si, Ge и сплавов на их основе: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: 01.04.10 / Рос. АН, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф.Иоффе
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Ишкалов, Ж. Т. |
| Опубликовано: | СПб. , 1993 |
| Физические характеристики: |
18 с.
|
| Язык: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||