Design zwischen Archaik und Hightech [Выяўленчы матэрыял]: [anlässlich der Ausstellung EOOS, MAK Wien, 28. 1. ― 17. 5. 2015] / [Autoren: Thomas Geisler, Katarina V. Posch, Christoph Thun-Hohenstein]
Gespeichert in:
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| 1. Verfasser: | "EOOS", дызайнерская фірма (Вена) |
| Veröffentlicht: | Basel Wien : Birkhäuser MAK , 2015 |
| Beschreibung: |
299 с. : іл. ; 31 см
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| Sprache: | Немецкий Английский |
| Schlagworte: |
ОФХ отдела книгохранения
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