Электронный каталог Национальной библиотеки Беларуси

Формирование наноструктурированных металлсодержащих покрытий осаждением из водных растворов, их свойства и применение в электронике: диссертация на соискание ученой степени доктора физико-математических наук: 05.27.01: защищена 12.04.07: утверждена 03.10.07 / Богуш Вадим Анатольевич. - Минск, 2006. - 414 л.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.3(043.3) 4 rus...”

Анализ систем металлизации интегральных схем: учебное пособие по курсу "Технология микросхем" / А. П. Достанко, В. В. Шаталов. - Минск : МРТИ, 1975. - 34 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793:669.058(075.8) 4 rus...”

Современные технологические процессы в микроэлектронике / Министерство высшего и среднего специального образования БССР, Минский радиотехнический институт, Кафедра технологии радиоэлектронной аппаратуры. Ч. 1 : учебное пособие по курсу "Технология микросхем и элементов ЭВА" / [А. П. Достанко и др.]. — 1977. — 37, [2] с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793(075.8) 4 rus...”

Ионно-плазменное формирование конденсаторных структур на основе танталата стронция-висмута для элементов сегнетоэлектрической энергонезависимой памяти: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук: специальность 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники / Окоджи Джейкобс Эхимэир. - Минск, 2018. - 21 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.18:621.315.61:537.226.4(043.3) 4 rus...”

Ионно-плазменное формирование конденсаторных структур на основе танталата стронция-висмута для элементов сегнетоэлектрической энергонезависимой памяти: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук: специальность 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники / Окоджи Джейкобс Эхимэир. - Минск, 2018. - 151 л.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.18:621.315.61:537.226.4(043.3) 4 rus...”

Формирование тонкопленочных изолирующих слоев с высокой диэлектрической проницаемостью для интегральных МДП структур реактивным магнетронным распылением: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук: специальность 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники / Вилья Пинеда Номар Альберто. - Минск, 2020. - 21 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.74(043.3) 4 rus...”

Формирование тонкопленочных изолирующих слоев с высокой диэлектрической проницаемостью для интегральных МДП структур реактивным магнетронным распылением: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук: специальность 05.27.06 Технология и оборудование для производства полупроводников, материалов и приборов электронной техники / Вилья Пинеда Номар Альберто. - Минск, 2020. - 156 л.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.74(043.3) 4 rus...”

Плазменные процессы в производстве изделий электронной техники / Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, Lehr- und Forschungsgebiet Werkstoffwissenschaften Rheinisch Westfälische Technische Hochschule Aachen. Т. 2 / под общей редакцией А. П. Достанко. — 2001. — 242, [1] с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.74 3 rus...”

Нанокомпозиционные покрытия и технологии в микроэлектронике / [В. А. Емельянов и др.]. - Минск : Беларуская навука, 2014. - 410, [1] с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793 4 rus...”

Формирование из газовой фазы функциональных слоев субмикронных структур интегральных микросхем на основе кремния: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук: специальность 05.27.01 Твердотельная электроника, радиоэлектронные компоненты, микро- и наноэлектроника, приборы на квантовых эффектах / Наливайко Олег Юрьевич. - Минск, 2022. - 25 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793/.794(043.3) 4 rus...”

Технологические процессы и системы в микроэлектронике: плазменные, электронно-ионно-лучевые, ультразвуковые / [А. П. Достанко и др.]. - Минск : Бестпринт, 2009. - 198 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.74 4 rus...”

Формирование слоев силицидов титана методом быстрой термической обработки системы TiN / Ti / Si в технологии интегральных микросхем: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук: специальность 01.04.07 Физика конденсированного состояния / Колос Владимир Владимирович. - Минск, 2012. - 23 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.74:661.882'065(043.3) 4 rus...”

Электрофизические процессы и оборудование в технологии микро- и наноэлектроники: монография / [А. П. Достанко и др.]. - Минск : Бестпринт, 2011. - 215 с.

“...621.382.049.77-027.3:621.793/.795 4 rus...”

Формирование слоев силицидов титана методом быстрой термической обработки системы TiN / Ti / Si в технологии интегральных микросхем: диссертация на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук: специальность 01.04.07 Физика конденсированного состояния / Колос Владимир Владимирович. - Минск, 2012. - 109, [1] л.

“...621.382.049.77-027.3:621.793.74:661.882'065(043.3) 4 rus...”

Связанные темы