Влияние имплантации ионов кремния и селена на состав, структуру и электрофизические характеристики полуизолирующего арсенида галлия [[Микроформа]]: Дис. ... канд. физ.-мат. наук: (02.00.04)

Сохранено в:
Шифр документа: 04900017564,
Вид документа: Диссертации
Автор: Ушаков, Б. В.
Опубликовано: М. , 1990
Физические характеристики: 143 с.
Язык: Русский
00000nbm0a22000001id4500
001 BY-NLB-rr41870150000
005 20080219120700.0
100 # # $a 20080219d1990 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Влияние имплантации ионов кремния и селена на состав, структуру и электрофизические характеристики полуизолирующего арсенида галлия  $b [Микроформа]  $e Дис. ... канд. физ.-мат. наук  $e (02.00.04) 
210 # # $a М.  $d 1990 
215 # # $a 143 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 132-143 
686 # # $a 02.00.04  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Ушаков  $b Б. В.  $g Борис Всеволодович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20080219  $g psbo