Проводимость тонких слоев высокоомных полупроводников, вызванная инъекцией из контакта и возбуждением носителей тока в толще слоя электронной бомбардировкой: Автореферат дисс. на соискание учен. степени кандидата физ.-мат. наук / АН СССР. Ин-т радиотехники и электроники

Сохранено в:
Шифр документа: АЯ68490СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Балашова, А. П.
Опубликовано: М. , 1964
Физические характеристики: 25 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr36769470000
005 20070828143334.0
021 # # $a RU  $b [64-43372] 
100 # # $a 20070828d1964 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Проводимость тонких слоев высокоомных полупроводников, вызванная инъекцией из контакта и возбуждением носителей тока в толще слоя электронной бомбардировкой  $e Автореферат дисс. на соискание учен. степени кандидата физ.-мат. наук  $f АН СССР. Ин-т радиотехники и электроники 
210 # # $a М.  $d 1964 
215 # # $a 25 с. 
300 # # $a Перед загл. авт.: А. П. Балашова (Алексеева) 
700 # 1 $a Балашова  $b А. П. 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070828  $g psbo