Высокотемпературная ионная имплантация в кремний: (01.04.10): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук / Рос. акад. наук, Сиб. отд-ние, Ин-т физики полупроводников
Enregistré dans:
| Format: | |
|---|---|
| Auteur principal: | Тысченко, И. Е. |
| Publié: | Новосибирск , 1992 |
| Description matérielle: |
15 с.
|
| Langue: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Disponible Réserver | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||