Кинетика и механизм образования тонких пленок при осаждении металлов в присутствии активных газов: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук: (01.04.07) / Харьк. политехн. ин-т им. В. И. Ленина

Сохранено в:
Шифр документа: 51762/88СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Шулаев, В. М.
Опубликовано: Харьков , 1988
Физические характеристики: 16 с.
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr19358920000
005 20070517180154.0
100 # # $a 20070517d1988 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a UA 
200 1 # $a Кинетика и механизм образования тонких пленок при осаждении металлов в присутствии активных газов  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. физ.-мат. наук  $e (01.04.07)  $f Харьк. политехн. ин-т им. В. И. Ленина 
210 # # $a Харьков  $d 1988 
215 # # $a 16 с. 
300 # # $a Библиогр.: с. 14-16 (18 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 01.04.07  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Шулаев  $b В. М.  $g Валерий Михайлович 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070517  $g psbo