Влияние радиационно-термических обработок на дефекты структуры и спектры глубоких уровней в тонких эпитаксиальных слоях GaAs и диодах на их основе: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: (05.27.21) / Моск. ин-т электрон. машиностроения

Сохранено в:
Шифр документа: 78519/89СК,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Морозова, О. Н.
Опубликовано: М. , 1989
Язык: Русский
00000nam0a22000001ia4500
001 BY-NLB-rr16186600000
005 20070411130451.0
100 # # $a 20070411d1989 y0rusy50 ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
200 1 # $a Влияние радиационно-термических обработок на дефекты структуры и спектры глубоких уровней в тонких эпитаксиальных слоях GaAs и диодах на их основе  $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук  $e (05.27.21)  $f Моск. ин-т электрон. машиностроения 
210 # # $a М.  $d 1989 
300 # # $a Библиогр.: с. 16-17 (7 назв.). Для служеб. пользования 
686 # # $a 05.27.21  $2 oksvnk 
700 # 1 $a Морозова  $b О. Н.  $g Ольга Николаевна 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20070411  $g psbo