Оптимизация процессов фотолитографии тонких слоев различного типа в технологии кремниевых интегральных микросхем: (05.27.01): Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук / Ленингр. электротехн. ин-т им. В. И. Ульянова (Ленина)
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Мартов, Э. |
| Опубликовано: | Л. , 1986 |
| Физические характеристики: |
10, [1] с.
|
| Язык: | Русский |
| 00000nam0a22000001ia4500 | |||
| 001 | BY-NLB-rr15267310000 | ||
| 005 | 20070402130231.0 | ||
| 021 | # | # | $a RU $b [86-18218а] |
| 100 | # | # | $a 20070402d1986 y0rusy50 ca |
| 101 | 0 | # | $a rus |
| 102 | # | # | $a RU |
| 200 | 1 | # | $a Оптимизация процессов фотолитографии тонких слоев различного типа в технологии кремниевых интегральных микросхем $e (05.27.01) $e Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук $f Ленингр. электротехн. ин-т им. В. И. Ульянова (Ленина) |
| 210 | # | # | $a Л. $d 1986 |
| 215 | # | # | $a 10, [1] с. |
| 300 | # | # | $a Библиогр.: с. 10-11 (10 назв.) |
| 686 | # | # | $a 05.27.01 $2 oksvnk |
| 700 | # | 1 | $a Мартов $b Э. $g Эдит |
| 801 | # | 1 | $a BY $b BY-HM0000 $c 20070402 $g psbo |