
Изовалентное легирование: управление электронными свойствами слоев GaAs и GaSb путем воздействия на систему примесей, точечных дефектов и наноразмерных кластеров: Дис. на соиск. учен. степ. д-ра физ.-мат. наук в форме науч. докл.: 01.04.10 / Рос. АН, Физ.-техн. ин-т им. А.Ф.Иоффе
Enregistré dans:
Format: | |
---|---|
Auteur principal: | Чалдышев, В. В. |
Publié: | СПб. , 1999 |
Description matérielle: |
51 c.
|
Langue: | Русский |
Sujets: |
ОФХ отдела книгохранения
Всего : 1 , доступно: 1 | Disponible Réserver | ||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|