Процесс формирования субмикронного рисунка методом проекционной фотолитографии для изготовления СВИС ЗУ на ЦМД: Автореф. дис. на соиск. учен. степ. канд. техн. наук: 05.27.01 / Моск. инж.-физ. ин-т
Enregistré dans:
| Format: | |
|---|---|
| Auteur principal: | Островерх, В. А. |
| Publié: | М. , 1993 |
| Description matérielle: |
20 с.
|
| Langue: | Русский |
ОФХ отдела книгохранения
| Всего : 1 , доступно: 1 | Disponible Réserver | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||