Моделирование ионно-лучевых технологических процессов формирования тонкопленочных структур: Автореф.дис.на соиск.учен.степ.канд.техн.наук:(05.27.06) / Мин.радиотехн.ин-т

Сохранено в:
Шифр документа: 2Ад1695, 2Ад1696,
Вид документа: Авторефераты диссертаций
Автор: Панков, В. В.
Опубликовано: Мн. , 1993
Физические характеристики: 20 с.
Язык: Русский
Предмет:
00000cam0a22000004ia4500
001 BY-NLB-br153871
005 20240104101545.0
100 # # $a 19930101d1993 u y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a by 
105 # # $a y km 001yy 
200 1 # $a Моделирование ионно-лучевых технологических процессов формирования тонкопленочных структур  $e Автореф.дис.на соиск.учен.степ.канд.техн.наук:(05.27.06)  $f Мин.радиотехн.ин-т 
210 # # $a Мн.  $d 1993 
215 # # $a 20 с. 
300 # # $a Библиогр.: с.19-20 (14 назв.) 
606 0 # $3 BY-NLB-ar34175  $a ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ СТРУКТУРЫ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar33874  $a ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ  $2 DVNLB 
606 0 # $3 BY-NLB-ar12162  $a ИОННО-ЛУЧЕВАЯ ОБРАБОТКА  $2 DVNLB 
675 # # $a 621.382  $v 3  $z rus 
686 # # $a 47.13.11  $2 rugasnti 
686 # # $a 05.27.06  $2 nsnrrb 
700 # 1 $3 BY-SEK-331978  $a Панков  $b В. В.  $g Владимир Викторович 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 19930101  $g psbo 
801 # 1 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20060316  $g psbo