Тенденции развития оборудования для газофазной эпитаксии кремния: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1957―1988 гг.) / А. Н. Семенченко, Ю. П. Райнова, Ю. Д. Чистяков

Сохранено в:
Шифр документа: 207543-8,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Семенченко, А. Н.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1989
Физические характеристики: 45, [1] с. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1989, вып. 8
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001467741
005 20180504144852.0
100 # # $a 20180504d1989 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Тенденции развития оборудования для газофазной эпитаксии кремния  $e (по данным отечественной и зарубежной печати за 1957―1988 гг.)  $f А. Н. Семенченко, Ю. П. Райнова, Ю. Д. Чистяков 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1989 
215 # # $a 45, [1] с.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $h Серия 7  $i Технология, организация производства и оборудование  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1989, вып. 8 
320 # # $a Библиография: с. 42―46 (81 назв.) 
345 # # $a 1646 экз. 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br119311  $1 2001   $v 1989, вып. 8 
700 # 1 $a Семенченко  $b А. Н.  $g Александр Николаевич 
701 # 1 $3 BY-RLST-ar451558  $a Райнова  $b Ю. П.  $g Юлия Петровна 
701 # 1 $3 BY-RLST-ar451557  $a Чистяков  $b Ю. Д.  $g Юрий Дмитриевич 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20180504  $g psbo