Технология субмикронной фотолитографии: современное состояние, перспективы развития и применения: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1967―1988 гг.) / Ю. С. Боков, А. Б. Невский, В. М. Фролов
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Боков, Ю. С. |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1988 |
| Физические характеристики: |
35 c. : ил. ; 21 см
|
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
1988, вып. 6 |
Загрузка