Технология субмикронной фотолитографии: современное состояние, перспективы развития и применения: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1967―1988 гг.) / Ю. С. Боков, А. Б. Невский, В. М. Фролов

Сохранено в:
Шифр документа: 205698-6,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Боков, Ю. С.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1988
Физические характеристики: 35 c. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1988, вып. 6
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001443395
005 20180122152407.0
100 # # $a 20180122d1988 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Технология субмикронной фотолитографии: современное состояние, перспективы развития и применения  $e (по данным отечественной и зарубежной печати за 1967―1988 гг.)  $f Ю. С. Боков, А. Б. Невский, В. М. Фролов  $g научный редактор И. Н. Суслова 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1988 
215 # # $a 35 c.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $h Серия 3  $i Микроэлектроника  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1988, вып. 6 
320 # # $a Библиография: с. 31―35 (73 назв.) 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br78454  $1 2001   $v 1988, вып. 6 
700 # 1 $a Боков  $b Ю. С.  $g Юрий Сергеевич 
701 # 1 $a Невский  $b А. Б.  $g Александр Борисович 
701 # 1 $a Фролов  $b В. М.  $g Владимир Михайлович 
702 # 1 $a Суслова  $b И. Н.  $4 340 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20170403  $g psbo