Методы контроля технологических процессов очистки кремниевых пластин и нанесения слоев при производстве МДП БИС: (по данным зарубежной печати за 1972―1978 гг.) / [И. А. Васильева, Г. А. Филаретов, А. С. Яковлев

Сохранено в:
Шифр документа: 153637-4,
Вид документа: Периодические издания
Автор: Васильева, И. А.
Опубликовано: Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1978
Физические характеристики: 46 c. : ил. ; 21 см
Язык: Русский
Серия: Обзоры по электронной технике 1978, вып. 4
00000cam2a22000003is4500
001 BY-NLB-br0001443392
005 20180122143233.0
100 # # $a 20180122d1978 y0rusy50 ||||ca 
101 0 # $a rus 
102 # # $a RU 
105 # # $a a ||||000yy 
200 1 # $a Методы контроля технологических процессов очистки кремниевых пластин и нанесения слоев при производстве МДП БИС  $e (по данным зарубежной печати за 1972―1978 гг.)  $f [И. А. Васильева, Г. А. Филаретов, А. С. Яковлев  $g научный редактор Ю. В. Федорович] 
210 # # $a Москва  $c ЦНИИ "Электроника"  $d 1978 
215 # # $a 46 c.  $c ил.  $d 21 см 
225 1 # $a Обзоры по электронной технике  $h Серия 3  $i Микроэлектроника  $f Министерство электронной промышленности СССР  $v 1978, вып. 4 
304 # # $a Авторы указаны на обложке 
320 # # $a Библиография: с. 41―46 (107 назв.) 
461 # 1 $1 001BY-NLB-br78454  $1 2001   $v 1978, вып. 4 
700 # 1 $a Васильева  $b И. А. 
701 # 1 $a Филаретов  $b Г. А. 
701 # 1 $a Яковлев  $b А. С. 
702 # 1 $a Федорович  $b Ю. В.  $4 340 
801 # 0 $a BY  $b BY-HM0000  $c 20170403  $g psbo