Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления. Ч. 2: (по данным отечественной и зарубежной печати за 1977―1987 годы) / С. Н. Шепелев, В. Ю. Васильев, В. П. Попов
Сохранено в:
| Вид документа: | |
|---|---|
| Автор: | Шепелев, С. Н. |
| Опубликовано: | Москва : ЦНИИ "Электроника" , 1988 |
| Физические характеристики: |
62 с. : ил. ; 21 см
|
| Язык: | Русский |
| Серия: |
Обзоры по электронной технике
1988, вып. 2 |
1988, №2: Плазмохимическое осаждение тонких пленок... Ч.2 / Шепелев С. Н.
| Всего : 1 , доступно: 1 | Доступно Заказать | ||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|||||||||||